有了平台，才能进行集成电路关键设备“光刻机“的设计、制造集成、测试和工艺试验。
明荣听到徐文扬的介绍后，知道这是千载难逢的机会。
十分卖力地介绍着自己的微电子公司：
“我们依托中海高校的优势人力资源，积极吸引国外先进智力，积极参与国际性的学术和技术交流活动，在努力培养一支理念先进、方法科学、视野开阔的国际化人才团队，以及相适应的高技术研发工程能力……”
“明总……”徐文扬打断了他的话，“这些套话不要讲了。叶董这次来，是务实的，不要整些虚头巴脑的，你先说说现在的中海微电子制造光刻机有什么困难？你们多少时间能研制出来？”
“诶，这困难可就多了……”
明荣脸上僵住了，把刚才给吴勒恩说过的镜头加工难度说了一遍后，又苦笑道：“除此之外，光刻机还需要体积小、功率高、特稳定的光源，我们得从无到有研发一套统极复杂光学系。”
“有了顶级的镜头和光源，没极致的机械精度，也是白搭。光刻机里有两个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片。两者需始终同步，误差在纳米级。两个工作台由静到动，加速度跟导弹发射差不多。”
“相当于两架大飞机从起飞到降落，始终齐头并进。一架飞机上伸出一把刀，在另一架飞机的米粒上刻字，不能刻坏了。”
明荣又道：“而且，温湿度和空气压力变化会影响对焦。机器内部温度的变化要控制在千分之五度，得有合适的冷却方法，精准的测温传感器。”
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